水質標準：
電子工業(yè)純水系統(tǒng)設計規(guī)范 GB50685-2011
中國電子級水質技術指標 GB/T11446.1-2013
電子級水測試方法通則 GB/T 11446.3-2013
電子級水電阻率的測試方法 GB/T11446.4-2013
電子級水中痕量金屬的原子吸收分光光度測試方法 GB/T114465-2013
電子級水中痕量陰離子的離子色譜測試方法 GB/T11446.72013
電子級水中總有機碳的測試方法 GB/T 11446.8-2013
電子級水中微粒的儀器測試方法 GB/T 11446.9 -2013
電子級水細菌總數(shù)的濾膜培養(yǎng)測試方法 GB/T 11446.10-2013
高純水和超純水應用行業(yè)：
◆半導體行業(yè)：用于晶元6~12寸切割、清洗、再生、封測用水、半導體設備清洗、電子級無塵布無塵服清洗。
◆太陽能光伏行業(yè)：單晶硅、多晶硅切片清洗、太陽能電池、石英坩堝、多晶硅方舟、光伏玻璃、高純硅粉
◆LCD、LED、OLED生產(chǎn)清洗用水，光學攝像頭清洗，光學材料清洗，導電玻璃清洗；
◆半導體集成電路板，線路板生產(chǎn)清洗用超純水；
◆鋰電池材料（磷酸鐵鋰、三元材料、鋰電池隔膜）、蓄電池、鋅錳電池生產(chǎn)用水
◆電子級超純化學試劑用純水，納米級電子陶瓷材料純水、尖端磁性材料用純水、有色金屬、貴金屬冶煉用水、航空新材料生產(chǎn)用水、電容器材料腐蝕化成工藝用水。
EDI電除鹽系統(tǒng)：
EDI 設備連續(xù)電除鹽（EDI，Electro deionization），是利用混和離子交換樹脂吸附給水中的陰陽離子，同時這些被吸附的離子又在直流電壓的作用下，分別透過陰陽離子交換膜而被除去的過程。這一過程離子交換樹脂是電連續(xù)再生的，因此不需要使用酸和堿對之再生。這種新技術可以替代傳統(tǒng)的離子交換（DI）裝置，生產(chǎn)出電阻率≥15MΩ.CM 的超純水。
離子交換膜和離子交換樹脂的工作原理相近，可以選擇性地透過離子，其中陰離子交換膜只允許陰離子透過，不允許陽離子透過；而陽離子交換膜只允許陽離子透過，不允許陰離子透過。在一對陰陽離子交換膜之間充填混合離子交換樹脂就形成了一個
EDI 單元。陰陽離子交換膜之間由混合離子交換樹脂占據(jù)的空間被稱為淡水室。將一定數(shù)量的 EDI 單元羅列在一起，使陰
離子交換膜和陽離子交換膜交替排列，在離子交換膜之間添加特殊的離子交換樹脂，其形成的空間被稱為濃水室。在給定的直流電壓的推動下，在淡水室中，離子交換樹脂中的陰陽離子分別向正、負極遷移，并透過陰陽離子交換膜進入濃水室，同時給水中的離子被離子交換樹脂吸附而占據(jù)由于離子電遷移而留下的空位。事實上離子的遷移和吸附是同時并連續(xù)發(fā)生的。通過這樣的過程，給水中的離子穿過離子交換膜進入到濃水室被去除而成為除鹽水。帶負電荷的陰離子（例如
OH-、Cl-）被正極（+）吸引而通過陰離子交換膜，進入到鄰近的濃水室。此后這些離子在繼續(xù)向正極遷移中遇到鄰近的陽離子交換膜，而陽離子交換膜不允許陰離子通過，這些離子即被阻隔在濃水中。淡水流中的陽離子（例如
Na+ 、H+）以類似的方式被阻隔在濃水室。在濃水室，透過陰陽膜的離子維持電中性。EDI
組件電流量和離子遷移量成正比。電流量由兩部分組成，一部分源于被除去離子的遷移，另一部分源于水本身電離產(chǎn)生的H+和OH-離子的遷移。在 EDI
組件中存在較高的電壓梯度，在其作用下，水會電解產(chǎn)生大量的H+和 OH-。這些就地產(chǎn)生的 H+和 OH-對離子交換樹脂有連續(xù)再生的作用。EDI
組件中的離子交換樹脂可以分為兩部分，一部分稱作工作樹脂，另一部分稱作拋光樹脂，二者的界限稱為工作前沿。工作樹脂承擔著除去大部分離子的任務，而拋光樹脂則承擔著去除弱電解質等較難清除離子的任務。
EDI的特點：
1、無須用酸堿再生、無須酸堿儲備和酸堿稀釋運送設施、使用安全可靠,避免工人接觸酸堿
2、節(jié)省了再生用水及再生污水處理設施
3、降低了運行及維護成本
4、占地面積小、安裝簡單、產(chǎn)水率高(可達90-95%)
5、連續(xù)運行、產(chǎn)品水水質穩(wěn)定、不會因再生而停機
超純水制取工藝推薦：
1、一級RO+EDI+拋混：產(chǎn)水電阻率≥18MΩ.CM（25℃），其余指標符合電子級超純水規(guī)范
源水→源水箱→增壓泵→砂濾器→炭濾器→軟化器/阻垢劑→保安過濾器→高壓泵→一級反滲透→一級水箱→增壓泵→精濾器→EDI電除鹽裝置→超純水箱（建議氮氣保護）→輸送泵→拋光混床→UV/TOC→精濾器→用水點→回水（建議管道循環(huán)、無死水）
注意：該工藝要求原水水質情況較好、否則可能會對EDI電除鹽系統(tǒng)造成不可修復損傷
2、二級RO+EDI+拋混：產(chǎn)水電阻率≥18MΩ.CM（25℃），其余指標符合電子級超純水規(guī)范
源水→源水箱→增壓泵→砂濾器→炭濾器→軟化器/阻垢劑→保安過濾器→高壓泵→一級反滲透→一級水箱→PH調(diào)節(jié)→高壓泵→二級反滲透→二級水箱→增壓泵→精濾器→EDI電除鹽裝置→超純水箱（建議氮氣保護）→輸送泵→拋光混床→UV/TOC→精濾器→用水點→回水（建議管道循環(huán)、無死水）
注意：如微粒子要求與TOC要求較高，建議后段設置脫除微粒子與TOC指標的專用超濾UF膜
3、盤濾+UF+二級RO+EDI+拋混：產(chǎn)水電阻率≥18MΩ.CM（25℃），其余指標符合電子級超純水規(guī)范
源水→源水箱→增壓泵→盤濾→袋濾→超濾UF→超濾水箱→中間泵→保安過濾器→高壓泵→一級反滲透→一級水箱→PH調(diào)節(jié)→高壓泵→二級反滲透→二級水箱→增壓泵→精濾器→EDI電除鹽裝置→超純水箱（建議氮氣保護）→輸送泵→拋光混床→UV/TOC→精濾器→用水點→回水（建議管道循環(huán)、無死水）
注意：如微粒子要求與TOC要求較高，建議后段設置脫除微粒子與TOC指標的專用超濾UF膜
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